等离子在LED晶圆去光刻胶（黄胶）行业的应用

随着人们对能源的需求越来越高，LED以其高效，环保，安全的优势得到快速的发展。LED晶圆是LED的核心部分，事实上，LED的波长、亮度、正向电压等主要光电参数基本上取决于晶圆材料。LED的相关电路元件的加工与制作都是在晶圆上完成的，所以晶圆技术与设备是晶圆制造技术的关键所在。

LED晶圆制作流程
Working Process of LED Wafer


 工艺流程中去胶清洗时去除光刻胶
     光刻胶又称光致抗蚀剂，由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。光刻胶应该具有比较小的表面张力，使光刻胶具有良好的流动性和覆盖。感光树脂经光照后，在曝光区能很快地发生光固化反应，使得这种材料的物理性能，特别是溶解性、亲合性等发生明显变化。

光刻胶通过曝光、显影和刻蚀等方式在每一层结构面上形成所需要的图案。在进行后一层处理时，需要将前一次使用后的光刻胶完全去除。
     由预先定义好的图形把不要的局域去除，保留要留下的区域，将图形转移到所选定的图上的过程需要等离子处理。
     等离子处理有以下优点：获得满意的剖面，钻孔小，选对表面和电路的损伤小，清洁、经济、安全。择比大，刻蚀均匀性好重复性高。处理过程中不会引入污染，洁净度高。
 

高分子聚合物的去除	等离子去除残胶/去浮渣/打底膜
只需要通过等离子清洗设备的简单处理，就能通过等离子产生的自由基将高分子 聚合物完全清除干净，包括在很深且狭窄尖锐的沟槽里的聚合物。	我们都知道一个物理常识，如果孔洞转角尖锐，金属液体是很难流进去的。那是因为 尖锐的转角增加了它表面的张力，从而影响了金属液体流动。而等离子设备可以将很 深洞中或其他很深地方将光刻胶的残留物去除掉。

推荐下列我公司设备可以为你解决烦恼
 

真空等离子清洗机	旋喷/直喷等离子清洗机
特点 1.可以选配13.56MHZ射频电源、微波电源、中频电源。 2.关键射频电源微波电源部件自制，设备性价比高。 3.腔体容积: 30-3000升。 4.使用气体 : 氩气(AR)/氮气（N2)/压缩空气（CDA）/CF4/等气体。 5.可定制在线真空等离子清洗机来连接客户流水线，实现自动化。	特点 1.等离子温度30-70℃。 2.可选配多种类型喷嘴，使用于不同场合，满足各种不同产品的处理环境。 3.设备尺寸小巧，方便携带和移动，节省客户使用空间 4.可In-Line式安装于客户设备产线中，减少客户投入成本 5.维修成本低，便于客户成本控制。